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基礎(chǔ)信息Product information

產(chǎn)品名稱：氫化反應(yīng)釜

產(chǎn)品型號(hào)：

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

氫化反應(yīng)釜主要特點(diǎn)是以靜密封取替了傳統(tǒng)的填料密封和機(jī)械密封，從而實(shí)現(xiàn)整臺(tái)反應(yīng)釜在密封狀態(tài)下工作。因此，更適合于各種有毒、易燃、易爆以及其它滲透力*的化學(xué)介質(zhì)進(jìn)行攪拌反應(yīng)，是石油化工、有機(jī)合成、制藥、食品等工藝中進(jìn)行硫化、氟化、氫化、氧化等反應(yīng)Z理想設(shè)備。

產(chǎn)品特性Product characteristics

氫化反應(yīng)釜主要特點(diǎn)是以靜密封取替了傳統(tǒng)的填料密封和機(jī)械密封，從而實(shí)現(xiàn)整臺(tái)反應(yīng)釜在密封狀態(tài)下工作。因此，更適合于各種有毒、易燃、易爆以及其它滲透力*的化學(xué)介質(zhì)進(jìn)行攪拌反應(yīng)，是石油化工、有機(jī)合成、制藥、食品等工藝中進(jìn)行硫化、氟化、氫化、氧化等反應(yīng)設(shè)備。

氫化反應(yīng)釜主要應(yīng)用于生產(chǎn)山梨醇、木糖醇、麥芽糖醇、糠醇以及醫(yī)藥中間體等，因氫氣為易燃易爆氣體，當(dāng)在空氣中達(dá)到一定的濃度與到明火即可爆炸，所以當(dāng)反應(yīng)釜用于加氫反應(yīng)時(shí)，請(qǐng)將設(shè)備上的所有容易產(chǎn)生電火花的設(shè)備換成防爆的，主要有：驅(qū)動(dòng)電機(jī)應(yīng)選用防爆電機(jī)，加熱器選用防爆加熱器，溫度傳感器、壓力傳感器等等，所有帶電設(shè)備均需選用防爆的，氫氣的防爆等級(jí)ExdⅡCT4。

技術(shù)參數(shù)表：

指標(biāo) 項(xiàng)目	公稱容積 L
指標(biāo) 項(xiàng)目	50	100	200	300	500	1000	2000	3000	5000
內(nèi)徑/內(nèi)	350/520	450/640	600/910	600/1290	800/1100	1000/1390	1200/2400	1300/3050
盤管傳熱面積㎡	0.2	0.5	0.8	1.0	1.2	2.5-4	4	5-8
工作壓力 Mpa	-0.1-15.0Mpa							-0.1-10.0Mpa
夾套工作壓力	0.1-1.6Mpa
工作溫度 ℃	室溫-300℃
加熱方式	夾套蒸汽、夾套導(dǎo)熱油電加熱管、遠(yuǎn)紅外、夾套油循環(huán)等
攪拌轉(zhuǎn)速 r/min	20～1000r/min 可調(diào)
攪拌槳葉形式	推進(jìn)式、槳式、錨式、渦輪式；
電機(jī)功率 Kw	0.55	0.75	1.1/3	3	3/4	5.5/7.5	7.5/11	11/15	15/18
釜蓋開口	攪拌口配磁力攪拌器，氣相口配球閥（進(jìn)、排氣、抽真空用），液相口配球閥及釜內(nèi)插底管（反應(yīng)過程中可用來取樣或上出料用），加料口配盲板，測(cè)控溫口配保護(hù)管及鉑電阻，壓力表安全爆破口配壓力表及安全防爆裝置，釜內(nèi)冷卻盤管進(jìn)、出口配閥門。開口可選配：釜底放料口配閥門，氣體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，液體取樣口配閥門及取樣器系統(tǒng)，進(jìn)出口匹配單向閥，氣體進(jìn)口配減壓閥，氣體出口配背壓閥，釜體釜蓋匹配觀察玻璃視窗，釜體液位計(jì)。
控制系統(tǒng)	配具有自整定功能PID控溫表，控溫精度±1.5℃，具有釜內(nèi)轉(zhuǎn)速顯示及無級(jí)調(diào)速功能，具加熱電壓可調(diào)功能，配有加熱電壓表、電機(jī)電流表、工作時(shí)間顯示表。連續(xù)操作控制系統(tǒng)：氣體增壓系統(tǒng)，液體加料系統(tǒng)，恒壓加料罐，接收及冷凝裝置，壓分離裝置，質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，自動(dòng)冷卻系統(tǒng)，壓力傳感器超壓報(bào)警，超溫報(bào)警斷電，計(jì)算機(jī)遠(yuǎn)程控制、數(shù)據(jù)采集等。
主體材料	1Cr18Ni9Ti （ 321 ）、00Cr17Ni14MO 2 （ 316L ）、 0Cr18Ni9 （ 304 ）、鎳、鎳基合金（哈氏合金、蒙乃爾合金、因康鎳合金）、鈦、銅、鋯、鉭、鋁及其合金、雙相不銹鋼、聚四氟乙烯等
控制儀的工作環(huán)境	環(huán)境溫度 0～50 ℃，相對(duì)濕度為 30～85% ，周圍介質(zhì)中不含導(dǎo)電塵埃及腐蝕氣體。